Los éxitos no paran de llegar para la integrante de BLACKPINK y es que se confirmó que Lisa ha sido oficialmente nombrada miembro del Comité Anfitrión del Met Gala 2026, uno de los puestos más influyentes dentro del evento más importante de la moda en Estados Unidos.
Con esta designación, la estrella tailandesa no sólo consolida su presencia global, sino que también marca un nuevo capítulo para los artistas asiáticos en la industria del lujo y la alta costura.
El evento que mezcla elegancia, espectáculo y cientos de celebridades élite se celebrará el próximo 4 de mayo de 2026 en el Museo Metropolitano de Arte en Nueva York, el evento promete ser uno de los más mediáticos de la década.
¿Por qué Lisa ha destacado fuera de BLACKPINK?
Desde su debut con BLACKPINK en 2016, Lisa se ha convertido en una de las artistas más influyentes del mundo, destacando no solo por su talento musical, sino también por su impacto en la moda global
Aunque muchos conocen su carrera musical, Lisa ha sido embajadora de firmas de lujo, referente del street style y figura dominante en campañas internacionales, su presencia en la alfombra del Met siempre genera titulares y se convierte en una de las más analizadas del evento.
Su nombramiento como parte del Comité Anfitrión ha sido reconocido debido a que la artista representa la perfecta mezcla entre cultura pop, elegancia y una habilidad única para impulsar tendencias y hacerlas virales en cuestión de segundos.
¿Qué otros artistas perticiparán en el Met Gala 2026?
Además de Lisa, el Met Gala 2026 reunirá a un comité anfitrión diverso y repleto de figuras destacadas. Entre los nombres ya confirmados sobresale Sabrina Carpenter, quien continúa escalando en popularidad tras un año lleno de éxitos musicales, apariciones virales y colaboraciones con grandes marcas de moda.
Junto a ellas, el listado lo complementan diseñadores, actores y líderes culturales que darán forma a una edición que promete romper récords de audiencia digital y convertirse en un hito para las nuevas generaciones en la moda.
